Paul Mitchell

After Sun Nourishing Masque Limited Edition 250 ml

Haarmaske

Aqua, Cetearyl Alcohol, Isododecane, Distearoylethyl Hydroxyethylmonium Methosulfate, Paraffinum liquidum, Polysorbate 20, Cetrimonium Chloride, Dicaprylyl Ether, Amodimethicone, Hydrogenated Polydecene, Benzyl Alcohol, Phenoxyethanol, Guar Hydroxypropyltrimonium Chloride, Phenyl Trimethicone, Triethyl Citrate, Parfum, PPG-1 Trideceth-6, Ethylhexylglycerin, Panthenol, Hydrolyzed wheat gluten, Helianthus annuus seed oil, Dipropylene Glycol, Dibutyl adipate, Hydrolyzed vegetable protein pg-propyl silanetriol, Sodium Acetate, Tetrasodium EDTA, Trideceth-12, Linalool, Hexyl cinnamal, Diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Bisamino PEG/PPG-41/3 Aminoethyl PG-Propyl Dimethicone, Cyclopentasiloxane, Isopropyl Alcohol, Laureth-7 citrate, Polyglyceryl-2 dipolyhydroxystearate, Citric Acid, Ethylhexyl triazone, Geraniol, Benzoic acid, Bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine, Lauryl Glucoside, Triethanolamine, Propylene Glycol, Sodium benzoate, Disodium EDTA, Potassium sorbate, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract

Die aufgeführten Inhaltsstoffe entsprechen dem aktuellen Stand der Produktion. Es fließen regelmäßig neue wissenschaftliche Erkenntnisse in die Rezepturen mit ein, wodurch sich die Formulierungen entsprechend ändern können. Maßgeblich sind daher die Inhaltsstoffe auf dem Produkt oder auf der Verpackung.